Low-temperature preparation of SiO2 tunnel oxides on c-Si with chemically abrupt interfaces and low densities of defect states
Veranstaltungsbeitrag › Posterpräsentation › 2013
Veranstaltung
Krakau, 08.09.2013 - 12.09.2013
XIII International Workshop on Semiconductor Surface Passivation (SSP 2013)
Krakau, 08.09.2013 - 12.09.2013
Posterpräsentation von Lars Korte, Thomas Lussky, Manfred Schmidt, Heike Angermann