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The Influence of wet-chemical smoothing on electronic properties of Si/SiO2 interfaces prepared by UHV plasma oxidation

Veranstaltungsbeitrag › Posterpräsentation › 2010

Veranstaltung

DPG Frühjahrstagung
Universität Regensburg, 21.03.2010 - 26.03.2010

Ergänzende Angaben

Poster O. Gref, B. Stegemann, E. Malguth, M. Roczen, H. Angermann, M. Schmidt

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